进口衬垫用于GC跟踪分析

回答

这个信息适用于:雷竞技raybet安捷伦GC系统分流/不分流进样(S / SL)入口

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问题

不同的衬垫所需不同的离了痕量分析技术包括:

• 一般使用衬垫
• 压力、温度、体积(PTV)
• 热入口
• 高的复苏
• 冷多模
• 顶部空间(HS)和清洗和陷阱(、)
• 固相微萃取(SPME)。

进口衬的选择是验证方法的一部分,和相同的衬垫类型必须始终在运行,使用方法。

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决议

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1. 离了,一般使用
   

   单锥,超惰性(UI),玻璃棉,900µL,内直径4毫米(ID)	5190 - 2295 p / n
   单锥,UI,低熔块,870µm, 4毫米ID	p / n5190 - 5112

2. 离了,PTV
   

   单一的挡板,停用,玻璃棉180µL, 2毫米ID	p / n5183 - 2038
   单一的挡板,停用2毫米ID	p / n5183 - 2036
   150µL Multibaffle,停用,1.8毫米ID	p / n5183 - 2037
   烧结玻璃、停用、1.5毫米ID	p / n5190 - 1426

3. 热离了,干净的矩阵
   

   反冲问题
   双锥,UI, 800µL, 4毫米ID	p / n5190 - 3983
   双锥,停用800µL, 4毫米ID	p / n5181 - 3315
   没有反冲问题
   单锥,UI, 900µL, 4毫米ID	p / n5190 - 2292
   单锥,停用900µL 4毫米ID	p / n5181 - 3316

4. 高复苏离了
   

   肮脏的矩阵
   单锥,UI,井底,直接连接压配合,UI, 675µL, 4毫米ID	p / n5190 - 7020
   干净的矩阵
   双锥,UI,洞,直接连接压配合,575µL, 4毫米ID	p / n5190 - 7011

5. 冷离了,多模入口,活跃的分析物
   

   上单锥度的UI, 200µL, 2毫米ID	p / n5190 - 2297
   上单锥度,停用200µL 2毫米ID	p / n5190 - 2296

6. 顶部空间/清洗和陷阱

   直,UI, 200µL, 2毫米ID,用于顶部空间转移	p / n5190 - 6168
   直,停用、石英、2毫米ID	p / n5181 - 8818

7. 萃取、快速转移
   

   直,35µL, 0.75毫米ID

   p / n5190 - 4048

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