我是第一个模型安捷伦客户社区的博客,这是第一条。雷竞技raybet我们会浏览这个模型讨论它是如何工作的和需要做什么来保持一个平稳运行。这是需要一段时间,我认为!
主要的普通用户维护清洗离子源模型。让我们揭开相对简单的过程,消除一些神话。
所有列出来的进入质谱仪。
我们说话的速度列流平均线速度。平均水平。像“44.7厘米/秒”,这是一英里每小时。不过,速度不是常数,。在进口,有无数的分子在压力下挤在一起-纳米分开最后列的女士分子之间有足够的空间让他们能够飞几米没有撞上另一个。流列会越来越快的有限制进入女士越来越少。
最后列女士,一切出来在分子流,不流,但分子真空朝着一条直线。这发生在分子之间的空间是时间比列内径,附近transferline结束。现在,无数的分子会在数千英里每小时进入离子源!
有没有流在真空中,只有活跃分子之间有空隙,平均自由程的事情。所有列出来的女士进入,活跃分子,或坚持,然后再次释放,反弹和坚持,直到他们保持连接或继续反弹,到高真空的泵。电子电离源,经常会有这样的说法:只有0.1%的分子被电离,并不是所有的这些离子检测器的四极。99.9%的分子不电离,触摸蹦来蹦去的一切。
在全球大气环流模型真空水平,分子的列接触每平方毫米内的每一个表面在不到三秒钟的时间。所有分子,它不是一个均匀分布。有些反弹,困,定居,取决于他们的沸点在真空中其他变量。那些已经困可能抓住其他分子,。这个粘层不断重新分配。
当分子粘在活动源干扰静电的静电组件领域。调优的一部分字段来适应这种变化。随着粘层活性成分的增加,源效率降低和调优更改。
一切女士,你列出来的进入。
- 所有的样品进入列-溶剂,矩阵,感兴趣的山峰,污染物
- 列流血如果您正在运行一个空气泄漏和氧气是破坏列阶段
- 气体污染物如果你的陷阱充满或气体从供应商的问题
可以减少进入质量规范通过注入体积最小,运行的最高浓度最低的分流比和最干净的样品你可以。源保持很干净如果你不运行任何东西。更好的你做这些步骤少清洁系统保持和维护需要执行以及使用的耗材数量最少的。如果你不,不能因为你的样品,然后你需要接受增加维护,耗材,和相关的成本。
粘层必须清除保持适当的质谱仪的函数。去除残留是正常用户维护,清洁源。分子也贴在不活跃的静电组件,像电离室的内部,绝缘体,源的身体。这些分配在热真空环境中,有些人会直接到任何新鲜清洁部分。清洁所有部分的整个装配和绝缘体经常清洗或更换。
清洗的频率取决于样本,样本的数量,和仪器运行的方式——注入多少,进口模式,温度等日常维护不包括在硬件维修合同。这是支付一次预防性维护,但大多数系统需要更多更多。不要等待!清洁尽早并且经常意味着你不需要努力工作。虽然分开,清洗彻底,每个表面,脸,角落,裂隙,边缘,窗口,和孔,内部和外部,每个地方是可能的。
总而言之:
- 所有列出来的进入。
- 清洗残留的女士是正常用户维护。
- 经常清洗。不要让它积累。
- 是彻底的。虽然分开,清洁所有你能。
有视频详细,涵盖所有必要的步骤清洗离子源。
1:09:06(3)模型清洗离子源-视频- GC / MS门户——安捷伦社区雷竞技raybet
26:29(3)如何清洁你的高效离子源-视频- GC / MS门户安捷伦社区雷竞技raybet
23:25(3)如何清洁你的化学电离离子源-视频- GC / MS门户安捷伦社区雷竞技raybet
44(3)模型的泵的选择和改变的泵油-视频- GC / MS门户——安捷伦社区雷竞技raybet
DE08546168
。
。
。
。
。
。
